集束イオンビーム3次元内部構造遠隔観察システム 一式
(2021年04月06日公示)

調達に必要とされる基本的な要求要件
本装置は、集束イオンビームを搭載した高分解能走査型電子顕微鏡に元素分析・結晶方位解析とそれらのマッピングを行える機能を有するとともに遠隔操作できるシステムから構成される。
A 集束イオンビームの要求要件
　a ガリウムイオン源を有し、最高加速電圧が25kV以上であること。
　b デポジションカートリッジとして、タングステン、カーボンを有すること。
　c 加工場所をリアルタイムでモニターできること。
B 高分解能走査型電子顕微鏡本体の要求要件
　a 電界放出形電子銃を有し、最高加速電圧が25kV以上であること。
　b 二次電子検出器、反射電子検出器を装備していること。
　c 電子線の入射角度は水平面に対して90度であること。
C 元素分析・結晶方位解析及びそれらのマッピング機能の要求要件
　a エネルギー分散特性X線分光(EDX)による元素定量分析機能を有すること。
　b シリコン・ドリフト形の検出素子を有し、素子面積は170平方ミリメートル以上であること。
　c 後方散乱電子回折(EBSD)を利用した結晶方位解析及び相同定機能を有すること。
　d EBSD用検出器としてCMOSカメラタイプを採用していること。
　e EDX及びEBSDを同時使用したマッピング像を得られること。
D 遠隔操作システムの要求要件
　a PCの画面をテレビ会議システムで発信できる機能を有していること。
　b 本装置を遠隔操作できる機能・システムを有すること。